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VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪

产品简介：

VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是研制开发的镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的设备。

产品型号

VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪

安装条件

本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）

2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地

3、气：设备腔室内需充注氩气（纯度99.99%以上），需自备氩气气瓶（自带?6mm双卡套接头）及减压阀

4、工作台：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上

5、通风装置：需要

主要特点

1、配置两个靶枪，一个为配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，一个为配套直流电源用于导电类材料的

  溅射镀膜。

2、可制备多种薄膜，应用广泛。

3、体积小，操作简便。

技术参数

1、电源电压：220V   50Hz

2、功率：<560W（不含真空泵）

3、真空度：< ?E-6mbar（配合本公司设备使用可达到?E-5mbar）

4、工作温度：RT-500℃，精度±1℃（可根据实际需要提升温度）

5、靶枪数量：2个（可选配其他数量）

6、靶枪冷却方式：水冷

7、靶材尺寸：?2″，厚度0.1-5mm（因靶材材质不同厚度有所不同）

8、直流溅射功率：500W（可选）

9、射频溅射功率：300W/500W（可选）

10、载样台：?140mm

11、载样台转速：1rpm-20rpm内可调

12、保护气体：Ar、N2等惰性气体

13、进气气路：质量流量计控制2路进气，每个流量为100SCCM

产品规格

主机尺寸：500mm×560mm×660mm，整机尺寸：1300mm×660mm×1200mm；重量：160kg

标准配件

1

直流电源控制系统

1套

2

射频电源控制系统

1套

3

膜厚监测仪系统

1套

4

分子泵（德国进口）

1台

5

冷水机

1台

6

冷却水管（?6mm）

4根

可选配件

金、铟、银、白金等各种靶材