E5000发射光谱仪具有全谱多元素同时分析、分析速度快、分析精准、稳定性好等优点。作为粉末样品元素分析的台式全谱直读发射光谱仪，E5000发射光谱仪拥有高功率数控电弧光源、全自动激光对准的光源装置、稳定可靠的全谱分光系统以及阵列CCD全谱测量技术，同时，E5000发射光谱仪结合时序分析、光谱自动校正等技术，采用固体样品直接进样的方法，全面解决了传统技术分析繁琐、效率低下、准确性差等问题。

  电弧发射光谱技术与全谱直读光谱技术结合，一代固体粉末分析技术；
  Paschen-Runge（帕型-龙格）全谱光学系统，能测定需要分析的所有常规元素；
  紧凑的小型台式设计，确保稳定可靠、易用便捷；
  防溢出CCD高速数采系统，信噪比高、动态范围大；
  高功率数控可编程光源，电流、电压、频率可控，提供更优的分析方法；
  多重连锁和监控，确保操作安全可靠；
  全自动电极激光对准系统；
  粉末样品直接进样，方便迅速；
  一键激发，立刻获得分析结果；
  内置工作曲线，客户无需手动建线，切实提高工作效率；
  软件开放所有高级功能，为客户提供完美的方法开发平台。
E5000发射光谱仪全谱测量技术
  全谱平台拥有丰富的谱线信息，更易于元素扩展与方法开发；
  基于全谱测量的数据，能够正确区分背景和谱线，有效提高测量精度；
  - 方便查看谱线及干扰情况
  - 支持斜背景、左右背景等不同的扣除方式
  强大的自动谱线去干扰算法；
  - 通过算法扣除干扰谱线获得干净的待分析谱线
  - 基于全谱测量数据的多峰拟合技术可将谱线完全分开，有效消除谱线的干扰
  根据元素的含量范围选择不同的分析谱线，大含量范围的测量更准确；
  - 多谱线结合，扩展分析范围的同时，有效保证分析精度；
  - 避免灵敏线饱和，不需要消释样品，取得更大的分析范围；
CCD高速数采系统
  防溢出线阵CCD；
  采用动态积分，有效扩展CCD的动态范围；
Paschen-Runge（帕型-龙格）全谱光学系统
  恒温型全固定光学系统；
  全反射式光路；
  光室结构紧凑；
  一体式固定；
  光学器件少，性能稳定；
  基于CCD的全谱采集和分析；
全新一代电弧数控光源
  数控光源体积小、效率高；
  基于数控可编程技术，光源的电流、电压、频率可调节；
  分析不同含量的元素，选择激发参数，降低元素分析的检出线，改善元素分析的准确度；
  可设置及读取不同检测阶段的数据；
一键激发及全自动对准电极
  样品装载激发一气呵成，方便快捷；
  多元素同时分析，直接得到终结果；
  设计精良的电极挟持旋钮；
  红外激光对准、电极激光自动对准技术；
  水冷电极夹提高检测稳定性；
多重连锁和安全保护
  可靠的水冷系统，分别对电弧光源和激发电极散热；
  实时监控仪器的运行状态，所有的连锁状态如冷却水、排风、炬室门等都通过界面和指示灯等多种形式直接提醒；
  界面上有关键温度的显示，可以及时查看仪器的运行情况；
  排风监控，消除废气影响；
  特殊的风道设计提高稳定性；
强大的分析软件
  便捷易用的分析软件；
  - 操作直观、便捷、层次化的软件界面，非专业人员也能方便操作
  - 简单的方法开发过程，各种检测条件都可调节
  强大的多元素分析平台；
  - 便捷的全谱查看
  - 多元素分析及多谱线选择
  - 一键激发，直接在软件上得到分析结果
  - 丰富的方法库有利于方法的传承、学习和维护
可分析元素及多谱线选择
  全面智能的软件算法；
  - 内置工作曲线，完善的时序分析，能够实现定性、定量分析
  - 丰富的处理技术，支持内标法、基底扣除、干扰元素校正等分析方法
  - 功能强大的高级处理功能，为客户带来更全面、更精确的分析体验
  - 智能漂移校正技术。

光学系统	Paschen-Runge（帕型-尨格）全谱光学系统
	波长范围：190nm~680nm
	多阵列式的高性能CCD检测器，具有深紫外检测能力
	恒温式全固定光学系统，无任何运动部件
激发光源	可编程数控电弧光源
	电流、电压、频率可控，为不同分析目标提供激发参数
	水冷式的激光自动对准的光源系统
数采系统	基于 DSP 和 FPGA 技术的高速数据采集及控制功能
	时序分析技术，实现更优化元素含量测量
	高速以太网数据传输
电源和环境要求	AC 220V±20V，50Hz
	待机平均功率 100VA
	工作稳定：10℃~30℃
	工作湿度：20%~80%
尺寸和重量	尺寸：770mm ×625mm×520mm
	重量：约80kg
选配件	循环冷却水装置
	交流参数稳压器
	光谱纯石墨电极
	主流配置品牌电脑
	激光打印机

应用领域
  铸造、冶金、机械加工、消防、航空航天、金属加工、金属材料质量鉴定、新材料开发等