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聚光E5000电弧直读发射光谱仪

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E5000发射光谱仪具有全谱多元素同时分析、分析速度快、分析精准、稳定性好等优点。作为粉末样品元素分析的台式全谱直读发射光谱仪,E5000发射光谱仪拥有高功率数控电弧光源、全自动激光对准的光源装置、稳定可靠的全谱分光系统以及阵列CCD全谱测量技术,同时,E5000发射光谱仪结合时序分析、光谱自动校正等技术,采用固体样品直接进样的方法,全面解决了传统技术分析繁琐、效率低下、准确性差等问题。

E5000发射光谱仪产品结构设计
  电弧发射光谱技术与全谱直读光谱技术结合,一代固体粉末分析技术;
  Paschen-Runge(帕型-龙格)全谱光学系统,能测定需要分析的所有常规元素;
  紧凑的小型台式设计,确保稳定可靠、易用便捷;
  防溢出CCD高速数采系统,信噪比高、动态范围大;
  高功率数控可编程光源,电流、电压、频率可控,提供更优的分析方法;
  多重连锁和监控,确保操作安全可靠;
  全自动电极激光对准系统;
  粉末样品直接进样,方便迅速;
  一键激发,立刻获得分析结果;
  内置工作曲线,客户无需手动建线,切实提高工作效率;
  软件开放所有高级功能,为客户提供完美的方法开发平台。
E5000发射光谱仪全谱测量技术
  全谱平台拥有丰富的谱线信息,更易于元素扩展与方法开发;
  基于全谱测量的数据,能够正确区分背景和谱线,有效提高测量精度;
  - 方便查看谱线及干扰情况
  - 支持斜背景、左右背景等不同的扣除方式
  强大的自动谱线去干扰算法;
  - 通过算法扣除干扰谱线获得干净的待分析谱线
  - 基于全谱测量数据的多峰拟合技术可将谱线完全分开,有效消除谱线的干扰
  根据元素的含量范围选择不同的分析谱线,大含量范围的测量更准确;
  - 多谱线结合,扩展分析范围的同时,有效保证分析精度;
  - 避免灵敏线饱和,不需要消释样品,取得更大的分析范围;
CCD高速数采系统
  防溢出线阵CCD;
  采用动态积分,有效扩展CCD的动态范围;
Paschen-Runge(帕型-龙格)全谱光学系统
  恒温型全固定光学系统;
  全反射式光路;
  光室结构紧凑;
  一体式固定;
  光学器件少,性能稳定;
  基于CCD的全谱采集和分析;
全新一代电弧数控光源
  数控光源体积小、效率高;
  基于数控可编程技术,光源的电流、电压、频率可调节;
  分析不同含量的元素,选择激发参数,降低元素分析的检出线,改善元素分析的准确度;
  可设置及读取不同检测阶段的数据;
一键激发及全自动对准电极
  样品装载激发一气呵成,方便快捷;
  多元素同时分析,直接得到终结果;
  设计精良的电极挟持旋钮;
  红外激光对准、电极激光自动对准技术;
  水冷电极夹提高检测稳定性;
多重连锁和安全保护
  可靠的水冷系统,分别对电弧光源和激发电极散热;
  实时监控仪器的运行状态,所有的连锁状态如冷却水、排风、炬室门等都通过界面和指示灯等多种形式直接提醒;
  界面上有关键温度的显示,可以及时查看仪器的运行情况;
  排风监控,消除废气影响;
  特殊的风道设计提高稳定性;
水冷系统 
强大的分析软件
  便捷易用的分析软件;
  - 操作直观、便捷、层次化的软件界面,非专业人员也能方便操作
  - 简单的方法开发过程,各种检测条件都可调节
  强大的多元素分析平台;
  - 便捷的全谱查看
  - 多元素分析及多谱线选择
  - 一键激发,直接在软件上得到分析结果
  - 丰富的方法库有利于方法的传承、学习和维护
可分析元素及多谱线选择
  全面智能的软件算法;
  - 内置工作曲线,完善的时序分析,能够实现定性、定量分析
  - 丰富的处理技术,支持内标法、基底扣除、干扰元素校正等分析方法
  - 功能强大的高级处理功能,为客户带来更全面、更精确的分析体验
  - 智能漂移校正技术。
光学系统 Paschen-Runge(帕型-尨格)全谱光学系统
波长范围:190nm~680nm
多阵列式的高性能CCD检测器,具有深紫外检测能力
恒温式全固定光学系统,无任何运动部件
激发光源 可编程数控电弧光源
电流、电压、频率可控,为不同分析目标提供激发参数
水冷式的激光自动对准的光源系统
数采系统 基于 DSP 和 FPGA 技术的高速数据采集及控制功能
时序分析技术,实现更优化元素含量测量
高速以太网数据传输
电源和环境要求 AC 220V±20V,50Hz
待机平均功率 100VA
工作稳定:10℃~30℃
工作湿度:20%~80%
尺寸和重量 尺寸:770mm ×625mm×520mm
重量:约80kg
选配件 循环冷却水装置
交流参数稳压器
光谱纯石墨电极
主流配置品牌电脑
激光打印机
应用领域
  铸造、冶金、机械加工、消防、航空航天、金属加工、金属材料质量鉴定、新材料开发等