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COWAQ S150RTL-1自动真空磁控离子溅射镀膜仪
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- 产品性能参数
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1. 概述
Cowaq 公司的 S150RTL-1 型全自动真空磁控离子溅射仪是用于电镜样品前处理的高质量的镀膜仪系统。整台设备采用了低温磁控设计，不仅使金属
靶和样品台表面的冷却不再需要，而且更低的溅射电压也使得仪器的使用寿命、安全性以及溅射效率更高。
2、S150RTL-1 的主要优势功能包括：
全自动运行
10 寸彩色液晶触摸屏全自动控制
150 mm(6 英寸)大样品室
低电压低温磁控溅射
参数可预设
全自动的操作和控制系统使得用户能更为方便地通过预选择参数来保证镀层厚度的精确和重复，也使得样品表面的镀层厚度以及颗粒更为均匀。10 寸的 液晶 屏可以更好地消除使用者对自己视力和手指直径的担忧，获得更好的操作感觉。150mm 的样品室设计使用户能更方便地装卸更大尺寸的样品，或是更多的样品，不仅可以降低成本，提高靶材的利用率，也大大提高了工作的效率。 配合多功能行星型倾斜旋转样品台，可以使不同形状的样品表面以及处于整个真空室
内各个不同位置的样品表面可以进行不同位置、角度交换，从而使所有的样品表面在不同位置，不同角度得到均匀、一致的镀膜效果。此溅射仪可以使用标准的 57mm 直径，0.1mm 厚的金、铂、金/钯、铂/钯或用户自行订制的其他厚度靶材。所有的溅射参数都可被预先设置，而不需要每次调节。完全实现全自动操作，使用者的参与已经被减至很少。
技术规格
仪器尺寸：410mm （长） x 390mm （宽） x 350mm（高），重 20 公斤
工作腔室：硼硅酸盐玻璃 150mm（直径） x 65mm（高）
靶：直径 57mm，0.1/0.2mm 厚（标准靶为金靶）、
行星倾斜旋转样品台（选配）：直径 86mm，靶面距离 40mm
真空度： 1x10 -2 mbar
溅射电流：10，20，30，40mA 可调
沉积速率：0-25 纳米/分钟
溅射定时：0-300 秒可调
预设置针阀：控制氩气压力，自动控制氩气样品室清洗
真空泵：油泵
真空测量：皮拉尼真空计
膜厚测量，可选配膜厚仪 MTM-20
氩气要求：99.99% 纯氩气，压力设定 0.5/0.6 bar，6.0mm 管路接口
电源：220 伏， 50Hz
MTM-20 膜厚监控仪技术规格 （选 配） ：
基于微处理控制，4 位显示系统，6 MHz 晶体监探器，每秒 5 次实时监控
膜厚监控范围： 0 到 999.9 纳米
分辨率： 优于 0.1 纳米
密度范围：0.50 到 30.00gm/cm3
电源：200-240 VAC, 50/60Hz
功率：550VA
叶片式油泵技术参数
抽速：24m³/h
真空度：5 x 10 -3 Torr
电压：220V，50Hz
仪器尺寸：410mm （长） x 390mm （宽） x 350mm（高），重 20 公斤
工作腔室：硼硅酸盐玻璃 150mm（直径） x 65mm（高）
靶：直径 57mm，0.1/0.2mm 厚（标准靶为金靶）、
行星倾斜旋转样品台（选配）：直径 86mm，靶面距离 40mm
真空度： 1x10 -2 mbar
溅射电流：10，20，30，40mA 可调
沉积速率：0-25 纳米/分钟
溅射定时：0-300 秒可调
预设置针阀：控制氩气压力，自动控制氩气样品室清洗
真空泵：油泵
真空测量：皮拉尼真空计
膜厚测量，可选配膜厚仪 MTM-20
氩气要求：99.99% 纯氩气，压力设定 0.5/0.6 bar，6.0mm 管路接口
电源：220 伏， 50Hz
MTM-20 膜厚监控仪技术规格 （选 配） ：
基于微处理控制，4 位显示系统，6 MHz 晶体监探器，每秒 5 次实时监控
膜厚监控范围： 0 到 999.9 纳米
分辨率： 优于 0.1 纳米
密度范围：0.50 到 30.00gm/cm3
电源：200-240 VAC, 50/60Hz
功率：550VA
叶片式油泵技术参数
抽速：24m³/h
真空度：5 x 10 -3 Torr
电压：220V，50Hz
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